致晟光电作为专注于微光显微镜与热红外显微镜应用的技术团队，设备在微小目标定位、热分布成像等场景中具备高分辨率优势，可广泛应用于芯片、PCB板、显示屏等消费电子元器件的检测环节，为您提供客观的物理位置或热分布定位数据。

为让您更直观了解设备的定位精度与适用性，我们诚挚邀请贵单位参与样品测试合作：若您有需要进行微光定位（如细微结构位置标记、表面瑕疵定位）或热红外定位（如元器件发热点分布、温度梯度成像）的样品，可邮寄至我方实验室。我们将提供专业检测服务，输出包含图像、坐标、数值等在内的定位数据报告（注：报告呈现客观检测结果，不做定性或定量结论判断）。测试过程中，我们会根据您的需求调整检测参数，确保定位数据贴合实际应用场景。若您对设备的定位效果认可，可进一步洽谈设备采购或长期检测服务合作。 红外成像可以不破坏芯片封装，尝试定位未开封芯片失效点并区分其在封装还是 Die 内部，利于评估芯片质量。制冷微光显微镜设备

考虑到部分客户的特殊应用场景，我们还提供Thermal&EMMI的个性化定制服务。无论是设备的功能模块调整、性能参数优化，还是外观结构适配，我们都能根据您的具体需求进行专属设计与研发。凭借高效的研发团队和成熟的生产体系，定制项目通常在 2-3 个月内即可完成交付，在保证定制灵活性的同时，充分兼顾了交付效率，让您的特殊需求得到及时且满意的答案。致晟光电始终致力于为客户提供更可靠、更贴心的服务，期待与您携手共进，共创佳绩。红外光谱微光显微镜方案设计微光显微镜能检测半导体器件微小缺陷和失效点，及时发现隐患，保障设备可靠运行、提升通信质量。

栅氧化层缺陷显微镜发光技术定位的失效问题中，薄氧化层击穿现象尤为关键。然而，当多晶硅与阱的掺杂类型一致时，击穿并不必然伴随着空间电荷区的形成。关于其发光机制的解释如下：当电流密度达到足够高的水平时，会在失效区域产生的电压降。该电压降进而引起显微镜光谱区内的场加速载流子散射发光现象。值得注意的是，部分发光点表现出不稳定性，会在一段时间后消失。这一现象可归因于局部电流密度的升高导致击穿区域熔化，进而扩大了击穿区域，使得电流密度降低。

得注意的是，两种技术均支持对芯片进行正面检测（从器件有源区一侧观测）与背面检测（透过硅衬底观测），可根据芯片结构、封装形式灵活选择检测角度，确保在大范围扫描中快速锁定微小失效点（如微米级甚至纳米级缺陷）。在实际失效分析流程中，PEM系统先通过EMMI与OBIRCH的协同扫描定位可疑区域，随后结合去层处理（逐层去除芯片的金属布线层、介质层等）、扫描电子显微镜（SEM）的高分辨率成像以及光学显微镜的细节观察，进一步界定缺陷的物理形态（如金属线腐蚀、氧化层剥落、晶体管栅极破损等），终追溯失效机理（如电迁移、热载流子注入、工艺污染等）并完成根因分析。这种“定位-验证-溯源”的完整闭环，使得PEM系统在半导体器件与集成电路的失效分析领域得到了关键的应用。我司微光显微镜能检测内部缺陷，通过分析光子发射评估性能，为研发、生产和质量控制提供支持。

EMMI 微光显微镜作为集成电路失效分析的重要设备，其漏电定位功能对于失效分析工程师而言是不可或缺的工具。在集成电路领域，对芯片的可靠性有着极高的要求。在芯片运行过程中，微小漏电现象较为常见，且在特定条件下，这些微弱的漏电可能会被放大，导致芯片乃至整个控制系统的失效。因此，芯片微漏电现象在集成电路失效分析中占据着至关重要的地位。此外，考虑到大多数集成电路的工作电压范围在3.3V至20V之间，工作电流即便是微安或毫安级别的漏电流也足以表明芯片已经出现失效。因此，准确判断漏流位置对于确定芯片失效的根本原因至关重要。 微光显微镜的自动瑕疵分类系统，可依据发光的强度、形状等特征进行归类，提高检测报告的生成效率。显微微光显微镜内容

我司自主研发的桌面级设备其紧凑的机身设计，可节省实验室空间，适合在小型研发机构或生产线上灵活部署。制冷微光显微镜设备

在故障分析领域，微光显微镜（EmissionMicroscope,EMMI）是一种极具实用价值且效率出众的分析工具。其功能是探测集成电路（IC）内部释放的光子。在IC元件中，电子-空穴对（ElectronHolePairs,EHP）的复合过程会伴随光子（Photon）的释放。具体可举例说明：当P-N结施加偏压时，N区的电子会向P区扩散，同时P区的空穴也会向N区扩散，随后这些扩散的载流子会与对应区域的载流子（即扩散至P区的电子与P区的空穴、扩散至N区的空穴与N区的电子）发生EHP复合，并在此过程中释放光子。制冷微光显微镜设备