安提基特拉机械,是为了计算天体在天空中的位置而设计的古希腊青铜机器,属于模拟计算机。该机器于1900年在希腊安提基特拉岛附近的安提基特拉沉船里被发现。制造年代约在西元前150年到100年之间。现藏于希腊国家考古博物馆。 [4]类似的工艺技术(天文钟)在欧洲直到...
③缩短图像传递链,减少工艺上造成的缺陷和误差,可获得很高的成品率。④采用精密自动调焦技术,避免高温工艺引起的晶片变形对成像质量的影响。⑤采用原版自动选择机构(版库),不但有利于成品率的提高,而且成为能灵活生产多电路组合的常规曝光系统。浸入式光刻技术原理这种系统...
浸没式光刻技术所面临的挑战主要有:如何解决曝光中产生的气泡和污染等缺陷的问题;研发和水具有良好的兼容性且折射率大于1.8的光刻胶的问题;研发折射率较大的光学镜头材料和浸没液体材料;以 及 有 效 数 值 孔 径NA值 的 拓 展 等 问题。针 对 这 些 难 ...
2006年时,莱特完成了他相信几乎正确的复制品。莱特和安提基特拉机械研究计划成员仍同时进行安提基特拉机械的研究。莱特稍微修改他的模型,引进了计划团队建议的针状和槽状啮合齿轮,这更精确模拟了月球的角速度异常变化。2007年3月6日他在希腊的雅典国家考古博物馆展示...
广角镜头又称短镜头。摄影辅助镜头的一种。镜头焦距***地小于像场直径(底片对角线长度),约为6~35毫米;视角大于标准镜头,约为53°以上直至220°。相对口径一般较小。广角透镜在十九世纪六十年代快直光镜头出现后即产生,此后经种种演变,已成摄影镜头中一个重要类...
艾伦·布隆莱一个和普赖斯有差异的重建模型是由澳大利亚悉尼大学的计算机科学家艾伦·布隆莱和悉尼的一位钟表师法兰克·帕西瓦尔建立。布隆莱和麦可·莱特合作使用更精密的X光影像重建新的模型。麦可·莱特曾担任伦敦科学博物馆机械部门主管,现任职于帝国理工学院的麦可·莱特和...
商用或家用数码相机的镜头,部分厂家采用了相对比较好的镜头。富士相机采用了170线/毫米解析度的专业富士龙镜头,这种内置的新型富士龙镜头比大多数SLR镜头更清晰。不仅在精度上保证了图象拍摄的品质,而且其镜头错误率也达到令人惊异的0.3%, 较一般的数码相机低2/...
为把193i技术进一步推进到32和22nm的技术节点上,光刻**一直在寻找新的技术,在没有更好的新光刻技术出现前,两次曝光技术(或者叫两次成型技术,DPT)成为人们关 注 的 热 点。ArF浸没式两次曝光技术已被业界认为是32nm节点相当有竞争力的技术;在更低...
所有实际电子束曝光、显影后图形的边缘要往外扩展,这就是所谓的“电子束邻近效应。同时,半导体基片上如果有绝缘的介质膜,电子通过它时也会产生一定量的电荷积累,这些积累的电荷同样会排斥后续曝光的电子,产生偏移,而不导电的绝缘体(如玻璃片)肯定不能采用电子束曝光。还有...
46、垫板垫板是介于固定板(或凹模)与模座间的淬硬板状零件,用以减低模座承受的单位压缩应力。A.每使用1500-2000小时维护保养应执行项目:1.滑润油脂吐出油量及压力检知功能测试与调整.2.空气系统之滤清器,给油器调整阀等功能及水份杂质测试检查与必要调整....
46、垫板垫板是介于固定板(或凹模)与模座间的淬硬板状零件,用以减低模座承受的单位压缩应力。A.每使用1500-2000小时维护保养应执行项目:1.滑润油脂吐出油量及压力检知功能测试与调整.2.空气系统之滤清器,给油器调整阀等功能及水份杂质测试检查与必要调整....
两种工艺常规光刻技术是采用波长为2000~4500埃的紫外光作为图像信息载体,以光致抗蚀剂为中间(图像记录)媒介实现图形的变换、转移和处理,**终把图像信息传递到晶片(主要指硅片)或介质层上的一种工艺。在广义上,它包括光复印和刻蚀工艺两个主要方面。①光复印工艺...
广角镜头又称短镜头。摄影辅助镜头的一种。镜头焦距***地小于像场直径(底片对角线长度),约为6~35毫米;视角大于标准镜头,约为53°以上直至220°。相对口径一般较小。广角透镜在十九世纪六十年代快直光镜头出现后即产生,此后经种种演变,已成摄影镜头中一个重要类...
42、始用挡料销(板)始用挡料销(板)是供材料起始端部送进时定位用的零件。始用挡料销(板)都是移动式的。43、拼块块是组成一个完整凹模、凸模、卸料板或固定板等的各个拼合零件。44、挡块(板)挡块(板)是供经侧刃切出缺口的材料送进时定位用的淬硬零件,兼用以平衡侧...
2019年荷兰阿斯麦公司推出新一代极紫外光刻系统,**了当今**的第五代光刻系统,可望将摩尔定律物理极限推向新的高度 [5]。中国工程院《Engineering》期刊于2021年组建跨学科评选委员会,通过全球**提名、公众问卷等多阶段评审,选定近五年内完成且具...
凸模是冲模中起直接形成冲件作用的凸形工作零件,即以外形为工作表面的零件。18、凹模凹模是冲模中起直接形成冲件作用的凹形工作零件,即以内形为工作表面的零件。19、防护板防护板是防止手指或异物进入冲模危险区域的板状零件。20、压料板(圈)压料板(圈)是冲模中用于压...
镜头的另一个重点在变焦能力。所谓的变焦能力包括光学变焦(optical zoom)与数码变焦(digital zoom)两种。两者虽然都有助于望远拍摄时放大远方物体,但是只有光学变焦可以支持图像主体成像后,增加更多的像素,让主体不但变大,同时也相对更清晰。通常...
商用级的数码相机中多使用与普通35 mm相机相同的普通广角镜头,由于其在景深深,拍摄范围广等优点,因而在选择数码相机时,同样性能的数码相机,能够具有广角和远距的数码相机将会性能更好一些。按结构固定光圈定焦镜头光学镜头实例简单:镜头只有一个可以手动调整的对焦调整...
镜头的另一个重点在变焦能力。所谓的变焦能力包括光学变焦(optical zoom)与数码变焦(digital zoom)两种。两者虽然都有助于望远拍摄时放大远方物体,但是只有光学变焦可以支持图像主体成像后,增加更多的像素,让主体不但变大,同时也相对更清晰。通常...
光刻机系统是材料科学领域的关键设备,通过光学成像原理将掩模版上的微细图形精确转移到光刻胶表面。系统配置1Kw近紫外光源与6V/30W显微镜灯适配器,配备气动防震台保障精密操作环境,其技术参数截至2020年11月24日仍在使用 [1]。通过光化学反应将掩模版上的...
电子束光刻基本上分两大类,一类是大生产光掩模版制造的电子束曝光系统,另一类是直接在基片上直写纳米级图形的电子束光刻系统。电子束光刻技术起源于扫描电镜,**早由德意志联邦共和国杜平根大学的G.Mollenstedt等人在20世纪60年代提出。电子束曝光的波长取决...
集成电路制造中利用光学- 化学反应原理和化学、物理刻蚀方法,将电路图形传递到单晶表面或介质层上,形成有效图形窗口或功能图形的工艺技术。随着半导体技术的发展,光刻技术传递图形的尺寸限度缩小了2~3个数量级(从毫米级到亚微米级),已从常规光学技术发展到应用电子束、...
放大率问题:光学镜头放大率问题,很多客户可能对镜头放大率不了解或者认识不多,所以造成了对镜头使用的错误操作或者选购不到合适的镜头,因此,普密斯光学针对这一问题进行专业的讲述,希望可以帮助大家更好的理解镜头参数问题。放 大 率 光学放大率影像大小相对于物体的放大...