硅片洁净烘箱，半导体百级洁净烤箱用于半导体制造中硅片、砷化镓、铌酸锂、玻璃等材料涂胶前的预处理烘烤、涂胶后坚膜烘烤和显影后的高温烘烤；也适用于电子液晶显示、LCD、CMOS、IS、医药、实验室等生产及科研部门；也可用于非挥发性及非易燃易爆物品的干燥、热处理、老化等其他高温试验。

烘箱由箱体部分、电器控制柜、电加热、过滤器及风道系统组装而成结构合理，外观美观大方；外箱采用质量冷轧板喷塑，可防止微尘；内胆采用质量SUS304镜面不锈钢板，并经碱性苏打水清洁去油污避免烘烤PARTICLE。 真空箱外壳必须有效接地，以保证使用安全。舟山双层钢化玻璃观察窗真空烘箱定制

洁净烘箱是一种提供高温净化环境的特殊洁净烘干设备。箱内空气封闭自循环，经耐高温GX空气过滤器（100级）反复过滤，使烘箱工作室内处于无尘状态。洁净烘箱工作室采用SUS304不锈钢结构。工作室内温度由智能数显温度控制仪进行PID恒温自动调节，并有时间控制装置，并设有超温自动切断电源及报警电路，控制可靠，使用安全。箱体内材质用SUS304不锈钢板，内胆用氩弧焊满焊，防止空气进入烘箱内及机台本身所产生的微尘，同时节省惰性气体。舟山真空烘箱维修维护尽量控制真空泵的流量和扬程在标牌上注明的范围内。

工业真空烘箱具有许多优势，以下是其中一些:1.高效干燥:真空烘箱在低压条件下加热，能够快速将水分从材料中脱除，提高了干燥效率。2.清洁表面:完全消除了加热过程中工件表面的氧化和脱碳，可以获得清洁的表面，而不会变质层3.环保性:无需三废处理，对环境无污染，并且在使用过程中不会排放任何废气或废水，对大气环境具有良好的保护作用。4.节能:采用良好的隔热材料和高效的加热室设计，可显著提高能源利用效率，降低能耗.5.温度控制精度高:通过热电偶等设备的精确测量和控制，可以实现±1.5℃℃甚至+5°C以内的温度控制精度6.机电一体化:在提高温度测量和控制精度的基础上，工件运动、气压调节、功率调节等都可以提前编程，实现自动化操作，降低人工成本。7.广泛的应用范围:可以应用于各种材料的干燥、烘烤、固化、脱气等工艺，特别适用于某些需要在真空环境中进行工艺处理的材料。

使用真空烘箱的正确步骤如下：

1.将物料均匀放入真空干燥箱内样品架上，推入干燥箱内。

2.关紧箱门，放气阀，箱门上有螺栓，可使箱门与硅胶密封条紧密结合。

3.将真空泵与真空阀连接，开启真空阀，抽真空，依据真空泵的性能，抽到压力表为真空泵的极限值为准。

4.抽完真空后，先将真空阀门关闭，如果真空阀门关不紧，请更换，然后再将真空泵电源关闭或移除（防止倒吸现象产生）。

5.本所物料的干燥周期，每隔一段时间观察一下，历力表，温度表，和箱体内的变化，来处理。如果压力表指数下降，则可能存在漏气现象，可再进行抽气操作。

6.干燥完成后，先将放气阀打开，放出里面气体，再进行打开真空干燥箱箱门，取出物料。 微电脑智能温控仪设定参数。

真空烘箱与普通烘箱在以下方面存在差异：

1.工作原理：真空烘箱通过抽取工作室内的空气，形成负压环境，然后利用加热和蒸发的方式将样品中的水分蒸发出来。而普通烘箱则是通过加热和对流的方式，将工作室内的空气温度升高，使样品中的水分蒸发。

2.烘干效率：真空烘箱中的压力较低，水分的蒸发速度较快，因此通常比普通烘箱的干燥速度更快。

3.温度控制：真空烘箱的控温精度和稳定性通常高于普通烘箱。

4.应用领域：真空烘箱常用于对空气敏感的样品进行干燥，例如化学试剂、生物样品等。而普通烘箱适用于对一般样品的干燥，如食品、药品、电子产品等。综上所述，真空烘箱和普通烘箱的主要区别在于工作原理、烘干效率、温度控制和应用领域。

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经常检查油位位置，不符合规定时须调整使之符合要求。舟山双层钢化玻璃观察窗真空烘箱定制

氮气烘箱含氧量不足的原因氮气烘箱是一种在生产过程中经常使用的设备，其主要功能是通过取代空气中的氧气来控制反应的速率和过程。氮气的取代作用使得烘箱中的反应物在不受氧气影响的情况下产生理想的效应，其加速干燥和稳定性能也得到了长足的发展。但在使用氮气烘箱的过程中，会出现含氧量不足的情况，这一现象通常是由以下几个原因引起的：

1. 氮气流量不足导致含氧量升高。

2. 检修不及时导致氮气发生器失效，无法正常产生氮气。

3. 氮气气瓶过期或者未更换及时，氮气质量下降。 舟山双层钢化玻璃观察窗真空烘箱定制