微泰半导体闸阀的特点：阀门驱动部分的所有滚子和轴承都进行了防护处理，形成屏蔽和保护环（Shield Blocker 和 Protection Ring）用三重预防方式切断粉末（Powder），延长阀门驱动和使用寿命。三重预防驱动方式的Shield功能可防止气体和粉末侵入阀体内部，有三重保护驱动保护环，长久延长GV寿命的Shield方法-供应给海外半导体T公司、M公司和I公司Utility设备。挡板与阀体的距离小于1mm，阻挡内部粉末和气体的流入，屏蔽挡板是采用1.5 t AL材料，考虑了复原力，并采用Viton粉末热压制成。三重保护保护环的主要功能说明-AL材料的重量减轻和保护环内部照明的改善-保护环内部流速的增加-三元环应用确保驱动性能。用真空闸阀时，应考虑与工艺气体的兼容性、工作压力范围、循环速度和维护要求等因素。多位闸阀闸板阀

微泰控制系统阀门是安装在半导体CVD设备中的主要阀门。控制系统阀门起到调节腔内压力的作用，通过控制系统自动调节闸板的开启和关闭。精确控制腔内压力的阀门分为三类：控制系统闸阀、蝶阀、多定位闸阀。控制系统和蝶阀使用步进电机操作，而多定位闸阀使用气动控制操作。一、控制系统闸阀。控制系统闸阀具有可隔离的闸阀，以滑动方式操作，可以在高真空环境中实现精确的压力控制。如半导体等高真空工艺应用。控制系统闸阀是自动控制到用户指定的值，通过控制器和步进电机保持一致的真空压力。二、蝶阀。该蝶阀具有紧凑的设计和坚固的不锈钢结构，通过闸板旋转操作。蝶阀可以实现精确的压力控制和低真空环境。例如半导体和工业过程。蝶阀通过控制器和步进电机自动控制到用户指定的值，保持一致的真空压力。三、多定位闸阀。多定位闸阀是一种利用压缩空气或氮气控制闸阀位置的阀门。它在阀门的顶部有一个内置控制器，可以在本地和远程模式下操作。它还具有紧急关闭功能，以应对泵停止或CDA压缩干空气丢失的情况。电动闸阀ALUMINUM GATE VALVE为特定的真空系统和工艺选择适当尺寸和类型的真空闸阀对于确保高效运行和可靠的真空完整性至关重要。

微泰，蝶阀应用于? Evaporation（蒸发）? Sputtering（溅射）? Diamond growth by MW-PACVD（通过MW-PACVD生长金刚石）? PECV? PVD(Cluster,Roll to Roll)（集群、卷对卷）? Coating（涂层）? Etch（蚀刻）? Diffusion（扩散）?CVD（化学气相沉积）等设备上。可替代VAT闸阀。微泰蝶阀其特点是? 主体材料：铝或不锈钢? 紧凑型设计? 高性能集成控制器? 使用维修零件套件轻松维护? 应用：半导体和工业过程的压力控制。蝶阀规格如下：法兰尺寸(内径)：DN40、DN50、馈通：旋转馈通、阀门密封：FKM（VITON）、执行器：步进电机、压力范围：1×10-8 mbar to 1200 mbar 、开启压差：≤ 30 mbar、开启压差≤30mbar、氦泄漏率1X10 -9Mbar/秒、维护前可用次数：250,000次、阀体温度≤ 150 °、控制器≤ 35 °C、材料：阀体STS304/机制STS304、安装位置：任意、接口：RS232、RS485、Devicenet、Profibus、EtherCat。有中国台湾Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、马来西亚的英菲尼亚半导体、日本Micron、三星半导体和其它的设备使用业绩，上海安宇泰环保科技有限公司。

微泰半导体主加工设备腔内精确压力控制的闸阀，蝶阀，Butterfly Valve产品范围：DN40 ~ 50 -压力控制-使用步进电机- Product Range : DN40 ~ 50- Pressure Controlled- Using Stepper Motor，- Compatible with VAT Butterfly Control Valve, series61.2 - Application Process : PVD, CVD, Etching, Diffusion-使用步进电机和控制器执行驱动。-通过步进电机/控制器精确定位，确保精确的压力控制。-兼容VAT蝶阀控制器，系列61.2，-应用工艺： PVD，CVD，蚀刻，扩散。微泰蝶阀Butterfly Valve有中国台湾Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、马来西亚的英菲尼亚半导体、日本Micron、三星半导体和其它的设备使用业绩。真空闸阀通过使用滑动闸门机构来控制气体的通过。

微泰半导体闸阀的特点：插板阀主滑阀的球机构方式-在量产工艺设备上的性能验证-由半永久性钢球陶瓷和板簧组成，陶瓷和金属触摸驱动无颗粒-已向中国台湾Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、马来西亚的英菲尼亚半导体、日本Micron、三星半导体和其它的设备，设备厂批量供货，已得到品质认可，已完成对半导体Utility设备和批量生产设备的验证，而其他厂家闸阀金属和金属触摸驱动产生大量颗粒。使用钢陶瓷球，与金属摩擦时不会损坏，金属与陶瓷球之间不会产生Particle，半永久板簧（SUS钢板）的应用确保阀门驱动同步性，采用了固定球导向器和钢陶瓷。微泰半导体闸阀应用于? Evaporation（蒸发）? Sputtering（溅射）? Diamond growth by MW-PACVD（通过MW-PACVD生长金刚石）? PECV? PVD(Cluster,Roll to Roll)（集群、卷对卷）? Coating（涂层）? Etch（蚀刻）? Diffusion（扩散）?CVD（化学气相沉积）等设备上。可替代HVA闸阀、VAT闸阀。上海安宇泰环保科技有限公司。真空闸阀由一个滑动门或板组成，可以移动以阻止或允许通过真空阀体，从而有效地将腔室与外部环境隔离。超真空闸阀英菲尼亚半导体

闸阀高度大，启闭时间长。闸板的启闭行程较大，升降是通过螺杆进行的。多位闸阀闸板阀

微泰，专门用闸阀应用于? Evaporation? Sputtering? Diamond growth by MW-PACVD? PECV? PVD? Coating? Etch? Diffusion（扩散）?CVD等设备上。可替代VAT闸阀。期特点是*使用维修配件工具包易于维护*将电磁阀和位置传感器连接到15针D-Sub*锁定功能*限位开关*?速度控制器&电磁阀（2Port+N2Port）用不锈钢管连接（φ6）*应用:泵隔离,产品工艺水平要求高的地方。专门用闸阀规格如下：驱动方式：气动、法兰尺寸：4英寸~ 8英寸、法兰类型：ISO, JIS, ASA, CF、连接方式：焊接波纹管、阀门密封：氟橡胶O型圈/Kalrez O型环/EPDM、阀盖密封：Viton O型圈、响应时间：≤ 0.3 sec ~2 sec、操作压力范围：1.5? ~ 6? : 1×10-10 mbar to 1400 mbar，8? ~ 12? : 1×10-10 mbar to 1200 mbar 、开始时的压差：≤ 30 mbar、闸门的差动压力：4? ~ 6? : ≤ 1400 mbar / 8? ~ 14? ≤ 1200 mbar、泄漏率：< 1×10 -10 Mbar/秒、初次维护前可用次数：200,000次、阀体温度≤ 200 °、CTemperature for Actuator≤ 80 °C、烤炉温度≤ 150 °C、材料：阀体(不锈钢304)/驱动器(铝6061阳极氧化)、安装位置：任意、操作压力(N2)：4 ~ 7 bar。有中国台湾Micron、UMC、AKT、Micron,Global Foundries、英菲尼亚半导体、日本Micron、三星半导体业绩。

多位闸阀闸板阀