EVG公司技术开发和IP总监Markus Wimplinger补充说：“我们开发新技术和工艺以应对zui复杂的挑战，帮助我们的客户成功地将其新产品创意商业化。技术，我们创建了我们的NILPhotonics能力中心。“在具有保护客户IP的强大政策的框架内，我们为客户提供了从可行性到生产阶段的产品开发和商业化支持。这正是我们今 天与AR领域的领 先者WaveOptics合作所要做的，以为zui终客户提供真正可扩展的解决方案。”

      EVG的NILPhotonics®能力中心框架内的协作开发工作旨在支持WaveOptics的承诺，即在工业，企业和消费者等所有主要市场领域释放AR在大众市场的应用，并遵循公司模块计划的推出。 高 效，强大的SmartNIL工艺提供高图案保真度，拥有高度均匀图案层和最少残留层，易于扩展的晶圆尺寸和产量。北京研究所纳米压印

    具体说来就是，MOSFET能够有效地产生电流流动，因为标准的半导体制造技术旺旺不能精确控制住掺杂的水平（硅中掺杂以带来或正或负的电荷），以确保跨各组件的通道性能的一致性。通常MOSFET是在一层二氧化硅（SiO2）衬底上，然后沉积一层金属或多晶硅制成的。然而这种方法可以不精确且难以完全掌控，掺杂有时会泄到别的不需要的地方，那样就创造出了所谓的“短沟道效应”区域，并导致性能下降。一个典型MOSFET不同层级的剖面图。不过威斯康星大学麦迪逊分校已经同全美多个合作伙伴携手（包括密歇根大学、德克萨斯大学、以及加州大学伯克利分校等），开发出了能够降低掺杂剂泄露以提升半导体品质的新技术。研究人员通过电子束光刻工艺在表面上形成定制形状和塑形，从而带来更加“物理可控”的生产过程。（来自网络。北京研究所纳米压印纳米压印设备哪个好？预墨印章可用于将材料以明显的图案转移到基材上。

纳米压印光刻设备-处理结果：

新应用程序的开发通常与设备功能的提高紧密相关。 EVG的NIL解决方案能够产生具有纳米分辨率的多种不同尺寸和形状的图案，并在显示器，生物技术和光子应用中实现了许多新的创新。HRI SmartNIL®压印上的单个像素的1.AFM图像压印全息结构的AFM图像

资料来源：EVG与SwissLitho

AG合作（欧盟项目SNM）

2.通过热压花在PMMA中复制微流控芯片

资料来源：EVG

3.高纵横比（7：1）的10 μm柱阵列

由加拿大国家研究委 员会提供

4.L / S光栅具有优化的残留层，厚度约为10 nm

资料来源：EVG

5.紫外线成型镜片300 μm

资料来源：EVG

6.光子晶体用于LED的光提取

多晶硅的蜂窝织构化（mc-Si）

由Fraunhofer ISE提供

7.金字塔形结构50 μm

资料来源：EVG

8.最小尺寸的光模块晶圆级封装

资料来源：EVG

9.光子带隙传感器光栅

资料来源：EVG（欧盟Saphely项目）

10.在强光照射下对HRISmartNIL®烙印进行完整的晶圆照相

资料来源：EVG

客户示范

■工艺开发

■材料测试

■与合作伙伴共同研发

■资助项目

■小批量试生产

■IP管理

■过程技术许可证

■流程培训

→世界一 流的洁净室基础设施

→最 先 进的设备

→技术专家

→专用计量

→工艺知识

→应用知识

→与NIL的工作印模材料和表面化学有关的化学专业知识

新应用程序的开发通常与设备功能的提高紧密相关。 EVG的NIL解决方案能够产生具有纳米分辨率的多种不同尺寸和形状的图案，并在显示器，生物技术和光子应用中实现了许多新的创新。

岱美作为EVG在中国区的代理商，欢迎各位联系我们，探讨纳米压印光刻的相关知识。我们愿意与您共同进步。

HERCULES NIL 300 mm提供市场上最 先 进纳米压印功能，具有较低的力和保形压印，快速高功率曝光和平滑压模分离。

对于压印工艺，EVG610允许基板的尺寸从小芯片尺寸到最 大直径150 mm。纳米技术应用的配置除了可编程的高和低接触力外，还可以包括用于印章的释放机构。EV Group专有的卡盘设计可提供均匀的接触力，以实现高产量的压印，该卡盘支持软性和硬性印模。

EVG610特征：

顶部和底部对准能力

高精度对准台

自动楔形误差补偿机制

电动和程序控制的曝光间隙

支持最 新的UV-LED技术

最小化系统占地面积和设施要求

分步流程指导

远程技术支持

多用户概念（无限数量的用户帐户和程序，可分配的访问权限，不同的用户界面语言）

敏捷处理和光刻工艺之间的转换

台式或带防震花岗岩台的单机版

附加功能：

键对准

红外对准

纳米压印光刻 

μ接触印刷

EV Group 提供完整的UV 紫外光纳米压印光刻（UV-NIL）产品线。北京研究所纳米压印

EVG开拓了这种非常规光刻技术，拥有多年技术，掌握了NIL，并已在不断增长的基板尺寸上实现了批量生产。北京研究所纳米压印

EVG ® 510 HE特征：

用于聚合物基材和旋涂聚合物的热压印应用

自动化压花工艺

EVG专有的独立对准工艺，用于光学对准的压印和压印

完全由软件控制的流程执行

闭环冷却水供应选项

外部浮雕和冷却站

EVG ® 510 HE技术数据：

加热器尺寸：150毫米 ，200毫米

最 大基板尺寸：150毫米，200毫米

最小基板尺寸：单芯片，100毫米

最 大接触力：10、20、60 kN

最 高温度：标准：350°C；可选：550°C

夹盘系统/对准系统

150毫米加热器：EVG ® 610，EVG ® 620，EVG ® 6200

200毫米加热器：EVG ® 6200，MBA300，的Smart View ® NT

真空：

标准：0.1毫巴

可选：0.00001 mbar

北京研究所纳米压印