EVG ® 610 紫外线纳米压印光刻系统

具有紫外线纳米压印功能的通用研发掩膜对准系统，从碎片到最 大150毫米。

该工具支持多种标准光刻工艺，例如真空，软，硬和接近曝光模式，并且可以选择背面对准。此外，该系统还为多功能配置提供了附加功能，包括键对准和纳米压印光刻（NIL）。EVG610提供快速的处理和重新安装工具，以改变用户需求，光刻和NIL之间的转换时间仅为几分钟。其先进的多用户概念可以适应从初学者到专家级别的所有需求，因此使其成为大学和研发应用程序的理想选择。

EVG ? 6200 NT是SmartNIL UV紫外光纳米压印光刻系统。联电纳米压印价格怎么样

EVG ® 620 NT特征：

顶部和底部对准能力

高精度对准台

自动楔形补偿序列

电动和程序控制的曝光间隙

支持最 新的UV-LED技术

最小化系统占地面积和设施要求

分步流程指导

远程技术支持

多用户概念（无限数量的用户帐户和程序，可分配的访问权限，不同的用户界面语言）

敏捷处理和转换工具

台式或带防震花岗岩台的单机版

EVG ® 620 NT附加功能：

键对准

红外对准

SmartNIL

μ接触印刷技术数据

晶圆直径（基板尺寸）

标准光刻：最 大150毫米的碎片

柔软的UV-NIL：最 大150毫米的碎片

SmartNIL ®：在100毫米范围

解析度：≤40 nm（分辨率取决于模板和工艺）

支持流程：软UV-NIL＆SmartNIL

®

曝光源：汞光源或紫外线LED光源

对准：

软NIL：≤±0.5 μm

SmartNIL ®：≤±3微米

自动分离：柔紫外线NIL：不支持；SmartNIL

®：支持

工作印章制作：柔软的UV-NIL：外部：SmartNIL ®：支持

联电纳米压印价格怎么样高 效，强大的SmartNIL工艺提供高图案保真度，拥有高度均匀图案层和最少残留层，易于扩展的晶圆尺寸和产量。

EVG ® 510 HE是EVG500系列的热压印系统

EV Group的一系列高精度热压印系统基于该公司市场领先的晶圆键合技术。出色的压力和温度控制以及大面积的均匀性可实现高精度的压印。热压印是一种经济高

效且灵活的制造技术，对于尺寸低至50 nm的特征，其复制精度非常高。该系统非常适合将复杂的微结构和纳米结构以及高纵横比的特征压印到各种聚合物基材或旋涂聚合物中。压模与基板对准的组合可将热压纹与预处理的基板结构对准。这个系列包含的型号有：EVG®510HE，EVG®520HE。

HERCULES ® NIL完全集成SmartNIL

®的 UV-NIL紫外光纳米压印系统。

EVG的HERCULES ® NIL产品系列

HERCULES ® NIL完全集成SmartNIL

® UV-NIL系统达200毫米

对于大批量制造的完全集成的纳米压印光刻解决方案，具有EVG's专有SmartNIL ®印迹技术

HERCULES NIL是完全集成的UV纳米压印光刻跟 踪解决方案，适用于最 大200 mm的晶圆，是EVG的NIL产品组合的最 新成员。HERCULES

NIL基于?？榛教?，将EVG专有的SmartNIL压印技术与清洁，抗蚀剂涂层和烘烤预处理步骤相结合。这将HERCULES NIL变成了“一站式服务”，将裸露的晶圆装载到工具中，然后将经过完全处理的纳米结构晶圆退回。 EVG紫外光纳米压印系统有： EVG?610，EVG?620NT，EVG?6200NT，EVG?720，EVG?7200等。

    NIL300mmEV集团企业技术开发和知识产权总监MarkusWimplinger表示：“EVG的NILPhotonics能力中心成立于2014年，为光刻/纳米压印技术供应链中的各个合作伙伴和公司与EVG合作提供了一个开放式的创新孵化器，从而缩短创新光子器件和应用的开发周期和上市时间。我们很高兴与肖特公司合作，证明EVG光刻/纳米压印技术解决方案的价值，不仅有助于新技术和新工艺的开发，还能够加速新技术和新工艺在大众市场中的采用。我们正在携手肖特开展的工作，彰显了光刻/纳米压印技术设备和工艺的成熟性，为各种令人兴奋的基于光子学的新产品和新应用的300-mm制造奠定了基础。”SCHOTTRealView?高折射率玻璃晶圆是领先AR/MR设备的关键组件，已经实现了批量生产。产品组合提供了高达，支持深度沉浸的AR/MR应用，视野更广，高达65度。在与增强现实硬件制造商进行多年研发之后，肖特在2018年推出了第 一代SCHOTTRealView?。这款高端产品在上市一年后便荣获了享有盛誉的2019年SID显示行业奖（SIDDisplayIndustryAward2019）。关于肖特肖特是特种玻璃、微晶玻璃和相关高科技材料领域的领先国际技术集团。公司积累了超过130年的经验，是众多行业的创新合作伙伴。 EVG620 NT是以其灵活性和可靠性而闻名的，因为它以最小的占位面积提供了最 新的掩模对准技术。掩模对准纳米压印参数

EVG ? 720是自动SmartNIL ? UV紫外光纳米压印光刻系统。联电纳米压印价格怎么样

EVG ® 7200 LA大面积SmartNIL

® UV纳米压印光刻系统

用于大面积无与伦比的共形纳米压印光刻。

EVG7200大面积UV纳米压印系统使用EVG专有且经过量证明的SmartNIL技术，将纳米压印光刻（NIL）缩放为第三代（550 mm x 650 mm）面板尺寸的基板。对于不能减小尺寸的显示器，线栅偏振器，生物技术和光子元件等应用，至关重要的是通过增加图案面积来提高基板利用率。NIL已被证明是能够在大面积上制造纳米图案的最经济有效的方法，因为它不受光学系统的限制，并且可以为最小的结构提供最 佳的图案保真度。

SmartNIL利用非常强大且可控的加工工艺，提供了低至40 nm *的出色保形压印结果。凭借独特且经过验证的设备功能（包括无与伦比的易用性）以及高水平的工艺专业知识，EVG通过将纳米压印提升到一个新的水平来满足行业需求。

*分辨率取决于过程和模板 联电纳米压印价格怎么样