首先准备一块柔性薄膜作为弹性基底层，然后将巯基-烯预聚物旋涂在具有表面结构的母板上，弹性薄膜压印在巯基-烯层上，与材料均匀接触。巯基-烯材料可以在自然环境中固化通过“点击反应”形成交联聚合物，不受氧气和水的阻聚作用。顺利分离开母板后，弹性薄膜与固化后的巯基-烯层紧密连接在一起，获得双层结构的复合柔性模板。由于良好的材料特性，刚性巯基-烯结构层可以实现较高的分辨率。因此，利用该方法可以制备高 分辨的复合柔性模板，经过表面防粘处理后可以作为软压印模板使用。该研究利用新方法制备了以PDMS和PET为弹性基底的亚100nm线宽的光栅结构复合软压印模板。相关研究成果发表于《纳米科技与纳米技术杂志》（JournalofNanoscienceandNanotechnology）。（来自网络。SmartNIL的主要技术是可以提供低至40 nm或更小的出色的共形烙印结果。半导体纳米压印测样

对于压印工艺，EVG610允许基板的尺寸从小芯片尺寸到最 大直径150 mm。纳米技术应用的配置除了可编程的高和低接触力外，还可以包括用于印章的释放机构。EV Group专有的卡盘设计可提供均匀的接触力，以实现高产量的压印，该卡盘支持软性和硬性印模。

EVG610特征：

顶部和底部对准能力

高精度对准台

自动楔形误差补偿机制

电动和程序控制的曝光间隙

支持最 新的UV-LED技术

最小化系统占地面积和设施要求

分步流程指导

远程技术支持

多用户概念（无限数量的用户帐户和程序，可分配的访问权限，不同的用户界面语言）

敏捷处理和光刻工艺之间的转换

台式或带防震花岗岩台的单机版

附加功能：

键对准

红外对准

纳米压印光刻 

μ接触印刷

高精密仪器纳米压印自动化测量EVG高达300 mm的高精度聚合物透镜成型和堆叠设备支持晶圆级光学（WLO）的制造。

EVG610特征：

顶部和底部对准能力

高精度对准台

自动楔形误差补偿机制

电动和程序控制的曝光间隙

支持最 新的UV-LED技术

最小化系统占地面积和设施要求

分步流程指导

远程技术支持

多用户概念（无限数量的用户帐户和程序，可分配的访问权限，不同的用户界面语言）

敏捷处理和光刻工艺之间的转换

台式或带防震花岗岩台的单机版

EVG610附加功能：

键对准

红外对准

纳米压印光刻 

μ接触印刷

EVG610技术数据：

晶圆直径（基板尺寸）

标准光刻：最 大150毫米的碎片

柔软的UV-NIL：最 大150毫米的碎片

解析度：≤40 nm（分辨率取决于模板和工艺）

支持流程：柔软的UV-NIL

曝光源：汞光源或紫外线LED光源

自动分离：不支持

工作印章制作：外部

EVG ® 520 HE特征：

用于聚合物基材和旋涂聚合物的热压印和纳米压印应用

自动化压花工艺

EVG专有的独立对准工艺，用于光学对准的压印和压印

气动压花选项

软件控制的流程执行

EVG ® 520 HE技术数据

加热器尺寸：150毫米，200毫米

最 大基板尺寸：150毫米，200毫米

最小基板尺寸：单芯片，100毫米

最 大接触力：10、20、60、100 kN

最 高温度：标准：350°C；可选：550°C

粘合卡盘系统/对准系统

150毫米加热器：EVG ® 610，EVG ® 620，EVG ® 6200

200毫米加热器：EVG ® 6200，MBA300，的Smart View ® NT

真空：

标准：0.1毫巴

可?。?.00001 mbar EV Group的一系列高精度热压花系统是基于该公司市场领先的晶圆键合技术。

EVG ® 510 HE是EVG500系列的热压印系统

EV Group的一系列高精度热压印系统基于该公司市场领先的晶圆键合技术。出色的压力和温度控制以及大面积的均匀性可实现高精度的压印。热压印是一种经济高

效且灵活的制造技术，对于尺寸低至50 nm的特征，其复制精度非常高。该系统非常适合将复杂的微结构和纳米结构以及高纵横比的特征压印到各种聚合物基材或旋涂聚合物中。压模与基板对准的组合可将热压纹与预处理的基板结构对准。这个系列包含的型号有：EVG®510HE，EVG®520HE。 SmartNIL 非常适合对具有复杂纳米结构微流控芯片进行高精度图案化，用在下一代药 物研究和医学诊断设备生产。半导体纳米压印测样

分步重复刻印通常用于高 效地制造晶圆级光学器件制造或EVG的Smart NIL工艺所需的母版。半导体纳米压印测样

UV-NIL / SmartNIL 纳米压印系统

EV Group为基于紫外线的纳米压印光刻（UV-NIL）提供完整的产品线，包括不同的单步压印系统，大面积压印机以及用于高 效母版制作的分步重复系统。除了柔软的UV-NIL，EVG还提供其专有的SmartNIL技术以及多种用途的聚合物印模技术。高 效，强大的SmartNIL工艺可提供高图案保真度，高度均匀的图案层和最少的残留层，并具有易于调整的晶圆尺寸和产量。EVG的SmartNIL兑现了纳米压印的长期承诺，即纳米压印是一种用于大规模生产微米和纳米级结构的高性能，低成本和具有批量生产能力的技术。

这个系列的型号包括：EVG®610；EVG®620NT；EVG®6200NT；EVG®720；EVG®7200；EVG®7200LA；HERCULES®NIL；EVG®770；IQAligner®。 半导体纳米压印测样