HERCULES ® NIL特征：

全自动UV-NIL压印和低力剥离

最多300毫米的基材

完全模块化的平台，具有多达八个可交换过程模块（压印和预处理）

200毫米/ 300毫米桥接工具能力

全区域烙印覆盖

批量生产最小40 nm或更小的结构

支持各种结构尺寸和形状，包括3D

适用于高地形（粗糙）表面

*分辨率取决于过程和模板

HERCULES ® NIL技术数据：

晶圆直径（基板尺寸）：100至200毫米/ 200和300毫米

解析度：≤40 nm（分辨率取决于模板和工艺）

支持流程：SmartNIL ®

曝光源：大功率LED（i线）> 400 mW /cm2

对准：≤±3微米

自动分离：支持的

前处理：提供所有预处理模块

迷你环境和气候控制：可选的

工作印章制作：支持的

EVG紫外光纳米压印系统还有：EVG?7200LA，HERCULES?NIL，EVG?770，IQAligner?等。晶圆片纳米压印售后服务

EVG ® 720特征：

体积验证的压印技术，具有出色的复制保真度

专有SmartNIL ®技术，多使用聚合物印模技术

集成式压印，UV固化脱模和工作印模制造

盒带到盒带自动处理以及半自动研发模式

可选的顶部对准

可选的迷你环境

适用于所有市售压印材料的开放平台

从研发到生产的可扩展性

系统外壳，可实现最 佳过程稳定性和可靠性技术数据

晶圆直径（基板尺寸）

75至150毫米

解析度：≤40 nm（分辨率取决于模板和工艺）

支持流程：SmartNIL ®

曝光源：大功率LED（i线）> 400 mW /cm2

对准：可选的顶部对准

自动分离：支持的

迷你环境和气候控制：可选的

工作印章制作：支持的

研究所纳米压印推荐厂家步进重复纳米压印光刻可以从最 大50 mm x 50 mm的小模具到最 大300 mm基板尺寸的大面积均匀复制模板。

UV纳米压印光刻

EV Group提供完整的UV纳米压印光刻（UV-NIL）产品线，包括不同的全 面积压印系统，大面积压印机，微透镜成型设备以及用于高 效母版制作的分步重复系统。除了柔软的UV-NIL，EVG还提供其专有的SmartNIL技术以及多种用途的聚合物印模技术。高 效，强大的SmartNIL工艺可提供高图案保真度，高度均匀的图案层和最少的残留层，并具有易于扩展的晶圆尺寸和产量。EVG的SmartNI技术达到了纳米压印的长期预期，即纳米压印是一种用于大规模生产微米和纳米级结构的高性能，低成本和具有批量生产能力的技术。

IQ Aligner®：用于晶圆级透镜成型和堆叠的高精度UV压印系统

■用于光学元件的微成型应用

■用于全场纳米压印应用

■三个独立控制的Z轴，用于控制压印光刻胶的总厚度变化（TTV），并在压模和基材之间实现出色的楔形补偿

■粘合对准和紫外线粘合功能

紫外线压印_紫外线固化

印章

防紫外线基材

附加印记压印纳米结构分离印记

用紫外线可固化的光刻胶旋涂或滴涂基材。随后，将压模压入光刻胶并在仍然接触的情况下通过UV光交联。

μ-接触印刷

软印章

基板上的材料

领取物料，物料转移，删除印章

SmartNIL集成了多次使用的软标记处理功能，因此还可以实现无与伦比的吞吐量。

      世界领 先的衍射波导设计商和制造商WaveOptics今 天宣布与EV Group（EVG）进行合作，EV Group是晶圆键合和纳米压印光刻设备的领 先供应商，以带来高性能增强现实（ AR）波导以当今业界zui低的成本进入大众市场。波导是可穿戴AR的关键光学组件。

      WaveOptics首席执行官David Hayes评论：“这一合作伙伴关系标志着增强现实行业的转折点，是大规模生产高质量增强现实解决方案的关键步骤，这是迄今为止尚无法实现的能力。” EVG的专业知识与我们可扩展的通用技术的结合将使到明年年底，AR终端用户产品的市场价格将低于600美元。“这项合作是释放AR可穿戴设备发展的关键；我们共同处于有利位置，可以在AR中引入大众市场创新，以比以往更低的成本开辟了可扩展性的新途径。” EVG770是用于步进重复纳米压印光刻的通用平台，可用于进行母版制作或对基板上的复杂结构进行直接图案化。芯片纳米压印美元价

EVG的SmartNIL技术是基于紫外线曝光的全场压印技术，可提供功能强大的下一代光刻技术。晶圆片纳米压印售后服务

NIL已被证明是在大面积上实现纳米级图案的最 具成本效益的方法，因为它不受光学光刻所需的复杂光学器件的限制，并且它可以为极小尺寸（小于100分）提供最 佳图案保真度nm）结构。

EVG的SmartNIL是基于紫外线曝光的全场压印技术，可提供功能强大的下一代光刻技术，几乎具有无限的结构尺寸和几何形状功能。由于SmartNIL集成了多次使用的软标记处理功能，因此还可以实现无与伦比的吞吐量，并具有显着的拥有成本优势，同时保留了可扩展性和易于维护的操作。另外，主模板的寿命延长到与用于光刻的掩模相当的时间。

新应用程序的开发通常与设备功能的提高紧密相关。 晶圆片纳米压印售后服务